近日，从在英国召开的国际高电压工程学术会议（International Symposium on High Voltage Engineering，ISH）传来喜讯，高压团队博士研究生薛乃凡的论文“The adsorption behaviour along insulator-interface and spatial dispersion concentration detection of micron-nano metal-dust in GIL”荣获最佳论文奖（ISH 2023 Best Paper Award）。

ISH是国际上高电压与绝缘技术领域规模大、水平高、最具影响力的学术盛会。自1972年起，ISH系列会议已在18个国家、23个地区成功举办。本届会议于2023年8月28日−9月1日在英国格拉斯哥召开，吸引了来自中国、德国、英国、日本、美国、韩国、瑞典、巴西等20多个国家的高校、科研院所及企业600余人参会，经严格审稿录用了369篇论文，内容涵盖装备电磁计算、暂态过电压、高电压与大电流测试、先进材料与绝缘、特高压直流输电、高电压工业应用等方面的最新成果。博士生薛乃凡等人撰写的论文从360多篇论文中脱颖而出，荣获大会Best Paper Award（共8篇），也是来自中国的唯一获奖论文。

薛乃凡，2016年获得华北电力大学电力系统及其自动化专业学士学位，目前在高电压与绝缘技术研究所攻读博士学位，师从李庆民教授，主要从事GIS/GIL微纳粉尘诱导微弱放电的光学示踪与高灵敏度探测方法研究，曾获得国家奖学金、优秀研究生干部等荣誉。

初审：李何筱

复审：张洪

审核：彭跃辉